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      新方法改善了半导体工艺步骤中的蒸汽输送问题

      来源:上海自动化仪表有限公司作者:发表时间:2018-04-23 09:51:47

           等离子体刻蚀和光刻胶剥离工艺是前端(FEOL)半导体制造步骤中的关键点。这些工艺会留下不需要的聚合物残留物,这些残留物是在这些蚀刻和剥离步骤中使用的侵蚀性化学物质的副产品。

       
          几十年来,上海自动化仪表有限公司用于促进去除这些残余物的技术之一是在等离子体化学中引入超纯的去离子水蒸气。几乎与半导体制造的所有方面一样,非常注意控制每个工艺步骤中的变量,以帮助确保最高水平的均匀性和微芯片产量。
       
          这包括尽最大可能控制残留物去除过程中使用的水蒸汽的体积,流量和纯度。上海自动化仪表有限公司最近推出了一种新型蒸气流量计,该流量计采用独特的蒸气传输技术方法,比同类蒸气传输系统的精确性和重复性高30倍。
          解决方案:恒定输送压力(DP)
          基于经过验证的热质量流量测量技术和现场验证的可靠蒸汽流量计,该产品通过精确和可重复的水蒸汽流量输送降低了过程变化,并提供了更宽的控制范围。
       
          蒸汽流量计在非过热蒸汽阶段在钝化钛容器中产生蒸汽。水库含有去离子(DI)水,加热到严格控制的范围:90.7±3°C。
       
          由于温度保持非常稳定,流量计室的上部包含恒定的非过热蒸汽。反过来,油箱的蒸汽压力也被精确控制:从487-611托。通过集成到流量计中的质量流量控制器(MFC)将蒸气输送到真空室,并使用我们行业领先的GF100系列MFC使用的相同的超精密热质量流量控制信号处理和校准技术。
       
      操作原理图 
       
          这种设计使得蒸汽流量计可以通过在MFC上保持恒定的DP来实现稳定的流量:
          进口MFC水蒸气压力是罐温度的函数
          进入真空室的出口MFC压力由室/管线压力决定
          这种技术方法使蒸汽流量计能够提供业界最佳的蒸汽输送精度和可重复性:±1%SP流量精度,被评为比竞争蒸汽输送系统更精确。
       
          该技术产生化学纯的水蒸气,不含分解副产物或其他污染物。实质上,蒸汽流量计不断“蒸馏”DI水蒸气,同时保持恒定的蒸汽压力进入MFC。此外,钝化钛罐和UHP 316L SS“湿路径”结构材料有助于减少非挥发性污染物进入处理室的可能性。
       
          结果:需要使用去离子水蒸汽的半导体光刻胶条和聚合物残渣去除工艺具有当今要求最严格的半导体制造工艺所要求的准确性,可重复性和清洁度水平。
       
          最新一代的蒸气流量计结合最高的精度,可重复性和更宽的控制范围,为用户提供最广泛的工艺配方灵活性,以满足他们的独特需求。它还具有EtherCAT®通信功能,可提供支持下一代工艺设备平台的增强型高速数字通信。
       
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